上海伯东美国考夫曼离子源离子枪成功应用于离子刻蚀 (IBE)

上海伯东美国考夫曼离子源 离子枪 Kaufman & Robinson, Inc (KRi) RFICP 成功应用于离子刻蚀 (IBE).上海伯东是美国考夫曼大中国区总代理,Kaufman & Robinson, Inc 美国考夫曼公司离子源 离子枪 RFCIP系列已广泛应用于离子刻蚀 (IBE) 工艺. 考夫曼离子源具有高离子浓度 (High beam currents) 及低离子能量 (Low beam energies). 此两个特殊条件对于刻蚀效率及刻蚀中避免伤害到工件表面材质可以达到优化. 并且可以依客户之工件尺寸选择所对应之型号: RFICP40, RFICP100, RFICP140, RFICP200, RFICP300.