上海伯东美国考夫曼霍尔离子源于离子刻蚀 (IBE) 应用 Kaufman & Robinson,Inc (KRi) End Hall

上海伯东为美国考夫曼公司离子源 离子枪 Kaufman & Robinson, Inc (KRi) 大中华总代理.美国霍尔离子源 离子枪 EH200, EH400, EH1000, EH200, EH3000 系列不仅广泛应用于生产单位,且因离子抨击能量强, 蚀刻效率快, 可因应多种基材特性,单次使用长久, 耗材成本极低, 操作简易, 安装简易, 所以美国考夫曼霍尔离子源目前广泛应用于许多蚀刻制程及基板前处理制程.

客户案例: 国内某大学天文学系小尺寸刻蚀设备
1. 系统功能: 对于 Fe, Se, Te , PCCO及多项材料刻蚀工艺.
2. 样品尺寸: 2?脊栊酒?
3. 实际安装:
刻蚀设备: 小型刻蚀设备. 选用上海伯东美国考夫曼霍尔离子源 EH400HC


离子源 EH400HC 安装于刻蚀腔体内.


离子源 EH400HC 控制单元操作 离子源 EH400HC 实际点燃 (氩气)


对于 FeSeTe 刻蚀应用, 离子源 EH400HC 条件: 110V/1.5A, 刻蚀速率 >20 A/Sec


对于 FeSeTe 刻蚀应用, 离子源 EH400HC 条件: 110V/1.5A, 刻蚀速率 >17 Å/Sec

霍尔离子源 EH400HC 优点:
- 高离子浓度 (High density), 低能量(Low energy)
- 离子束涵盖面积广 (high ion beam sharp)
- 镀膜均匀性佳
- 提高镀膜品质
- 模块化设计, 保养快速方便
- 增加光学膜后折射率 (Optical index)
- 全自动控制设计, 超做简易
- 低耗材成本,安装简易