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上海伯东 KRi 射频离子源 RFICP 220

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最后更新时间:2023-06-08
人气值 40
品牌:
KRI
 
 
 
售后服务:由伯东企业(上海)有限公司从上海浦东新区发货,并提供售后服务
  • 因产品配置不同,价格货期需要电议,图片仅供参考,一切以实际成交合同为准。



    上海伯东代理美国原装进口 KRI 射频离子源 RFICP 220 高能量栅极离子源, 适用于离子溅镀, 离子沉积和离子蚀刻. 在离子束溅射工艺中, 射频离子源 RFICP 220 配有离子光学元件, 可以很好的控制离子束去溅射靶材, 实现##的薄膜特性. 同样的在离子束辅助沉积和离子束刻蚀工艺中, 好的离子光学元件能够完成发散和聚集离子束的任务. 标准配置下射频离子源 RFICP 220 离子能量范围 100 1200ev, 离子电流可以超过 800 mA.

    KRI 射频离子源 RFICP 220 技术参数:

    型号

    RFICP 220

    Discharge 阳极

    RF 射频

    离子束流

    >800 mA

    离子动能

    100-1200 V

    栅极直径

    20 cm Φ

    离子束

    聚焦, 平行, 散射

    流量

    10-40 sccm

    通气

    Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

    典型压力

    < 0.5m Torr

    长度

    30 cm

    直径

    41 cm

    中和器

    LFN 2000

    KRI 射频离子源 RFICP 220 应用领域:

    预清洗

    表面改性

    辅助镀膜(光学镀膜)IBAD,

    溅镀和蒸发镀膜 PC

    离子溅射沉积和多层结构 IBSD

    离子蚀刻 IBE


    1978 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项专利. KRi 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.

    若您需要进一步的了解产品详细信息或讨论, 请联络上海伯东邓女士, 分机134


  • 伯东企业(上海)有限公司是德国普发授权代理商。伯东真空主营产品德国 Pfeiffer 涡轮分子泵, 干式真空泵, 罗茨真空泵, 旋片真空泵; 应用于各种条件下的真空测量(真空计, 真空规管); 氦质谱检漏仪;质谱分析仪;真空系统以及 Cryo pump 冷凝泵/低温泵, HVA 真空阀门, Polycold 冷冻机和美国KRI 离子源.Gamma离子泵。
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