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上海伯东 KRI 霍尔离子源 eH 400
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因产品配置不同，价格货期需要电议，图片仅供参考，一切以实际成交合同为准。
上海伯东代理美国原装进口 KRI 霍尔离子源 eH 400 低成本设计提供高离子电流, 霍尔离子源 eH 400 尺寸和离子能量特别适合中小型的真空系统, 可以控制较低的离子能量, 通常应用于离子辅助镀膜, 预清洗和低能量离子蚀刻.
尺寸: 直径= 3.7“ 高= 3”
放电电压 / 电流: 50-300eV / 5a
操作气体: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有机前体
KRI 霍尔离子源 eH 400 特性：
• 可拆卸阳极组件 - 易于维护; 维护时, 大限度地减少停机时间; 即插即用备用阳极
• 宽波束高放电电流 - 均匀的蚀刻率; 刻蚀效率高; 高离子辅助镀膜 IAD 效率
• 多用途 - 适用于 Load lock / 超高真空系统
• 好的等离子转换和稳定的功率控制
KRI 霍尔离子源 eH 400 技术参数:
型号
eH 400 / eH 400 LEHO
供电
DC magnetic confinement
- 电压
40-300 V VDC
- 离子源直径
~ 4 cm
- 阳极结构
模块化
电源控制
eHx-3005A
配置
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- 阴极中和器
Filament, Sidewinder Filament or Hollow Cathode
- 离子束发散角度
> 45° (hwhm)
- 阳极
标准或 Grooved
- 水冷
前板水冷
- 底座
移动或快接法兰
- 高度
3.0'
- 直径
3.7'
- 加工材料
金属
电介质
半导体
- 工艺气体
Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors
- 安装距离
6-30”
- 自动控制
控制4种气体
* 可选: 可调角度的支架;
离子辅助镀膜 IAD
• 预清洁 Load lock preclean
• In-situ preclean
• Low-energy etching
• III-V Semiconductors
• Polymer Substrates·
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项专利. KRi 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.
若您需要进一步的了解产品详细信息或讨论, 请联络上海伯东邓女士, 分机134
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伯东企业（上海）有限公司是德国普发授权代理商。伯东真空主营产品德国 Pfeiffer 涡轮分子泵, 干式真空泵, 罗茨真空泵, 旋片真空泵; 应用于各种条件下的真空测量(真空计, 真空规管); 氦质谱检漏仪；质谱分析仪；真空系统以及 Cryo pump 冷凝泵/低温泵, HVA 真空阀门, Polycold 冷冻机和美国KRI 离子源.Gamma离子泵。
