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上海伯东 KRI 考夫曼离子源 KDC 10
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因产品配置不同，价格货期需要电议，图片仅供参考，一切以实际成交合同为准。
上海伯东代理美国原装进口 KRI 考夫曼离子源 KDC 10: 考夫曼型离子源 Gridded 系列小型号的离子源. 适用于集成在小型的真空设备中, 例如预清洗, 离子溅射, 离子蚀刻. 在 <1000eV 低能量, 通 Ar 氩气时离子蚀刻的能力显著提高.KDC 10 离子源低损伤, 宽束设计, 低成本等优点广泛应用在显微镜领域, 标准配置下 KDC 10 离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 10mA.
KRI 考夫曼离子源 KDC 10 技术参数：
型号
KDC 10
供电
DC magnetic confinement
- 阴极灯丝
1
- 阳极电压
0-100V DC
- 栅极直径
1cm
中和器
灯丝
电源控制
KSC 1202
配置
-
- 阴极中和器
Filament, Sidewinder Filament 或LFN 1000
- 架构
移动或快速法兰
- 高度
4.5'
- 直径
1.52'
- 离子束
集中
平行
散设
-加工材料
金属
电介质
半导体
-工艺气体
惰性
活性
混合
-安装距离
2-12”
- 自动控制
控制4种气体
KRI 考夫曼离子源 KDC 10 应用领域：
离子清洗, 显微镜抛光 IBP
溅镀和蒸发镀膜 PC
辅助镀膜(光学镀膜) IBAD
表面改性, 激活 SM
离子溅射沉积和多层结构 IBSD
离子蚀刻 IBE
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项专利. KRi 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.
若您需要进一步的了解产品详细信息或讨论, 请联络上海伯东邓女士, 分机134
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伯东企业（上海）有限公司是德国普发授权代理商。伯东真空主营产品德国 Pfeiffer 涡轮分子泵, 干式真空泵, 罗茨真空泵, 旋片真空泵; 应用于各种条件下的真空测量(真空计, 真空规管); 氦质谱检漏仪；质谱分析仪；真空系统以及 Cryo pump 冷凝泵/低温泵, HVA 真空阀门, Polycold 冷冻机和美国KRI 离子源.Gamma离子泵。
