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上海伯东 KRI 考夫曼离子源 KDC 40
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因产品配置不同，价格货期需要电议，图片仅供参考，一切以实际成交合同为准。
上海伯东代理美国原装进口 KRI 考夫曼离子源 KDC 40: 小型低成本直流栅极离子源. KDC 40 是 3cm 考夫曼型离子源升级款. 具有更大的栅极, 更坚固, 可以配置自对准第三层栅极. 离子源 KDC 40 适用于所有的离子工艺, 例如预清洗, 表面改性, 辅助镀膜, 溅射镀膜, 离子蚀刻和沉积. 离子源 KDC 40 兼容惰性或活性气体, 例如氧气和氮气. 标准配置下离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 120 mA.
KRI 考夫曼离子源 KDC 40 技术参数：
型号
KDC 40
供电
DC magnetic confinement
- 阴极灯丝
1
- 阳极电压
0-100V DC
电子束
OptiBeam™
- 栅极
专用, 自对准
-栅极直径
4 cm
中和器
灯丝
电源控制
KSC 1202
配置
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- 阴极中和器
Filament, Sidewinder Filament 或LFN 1000
- 架构
移动或快速法兰
- 高度
6.75'
- 直径
3.5'
- 离子束
集中
平行
散设
-加工材料
金属
电介质
半导体
-工艺气体
惰性
活性
混合
-安装距离
6-18”
- 自动控制
控制4种气体
* 可选: 可调角度的支架
KRI 考夫曼离子源 KDC 40 应用领域：
溅镀和蒸发镀膜 PC
辅助镀膜(光学镀膜)IBAD
表面改性, 激活 SM
离子溅射沉积和多层结构 IBSD
离子蚀刻 IBE
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项专利. KRi 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.
若您需要进一步的了解产品详细信息或讨论, 请联络上海伯东邓女士, 分机134
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伯东企业（上海）有限公司是德国普发授权代理商。伯东真空主营产品德国 Pfeiffer 涡轮分子泵, 干式真空泵, 罗茨真空泵, 旋片真空泵; 应用于各种条件下的真空测量(真空计, 真空规管); 氦质谱检漏仪；质谱分析仪；真空系统以及 Cryo pump 冷凝泵/低温泵, HVA 真空阀门, Polycold 冷冻机和美国KRI 离子源.Gamma离子泵。
