上海伯东 KRI 射频离子源 RFICP 40

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上海伯东代理美国原装进口 KRI 射频离子源 RFICP 40 : 目前 KRI 射频离子源 RFICP 系列尺寸小, 低成本离子源. 适用于集成在小型的真空腔体内. 离子源 RFICP 40 设计采用创新的栅极技术用于研发和开发应用. 离子源 RFICP 40 无需电离灯丝设计, 适用于通气气体是活性气体时的工业应用. 标准配置下 RFICP 40 离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 120 mA.

射频离子源 RFICP 40 特性:

1.       离子源放电腔 Discharge Chamber, 无需电离灯丝, 通过射频技术提供高密度离子, 工艺时间更长.

2.       离子源结构模块化设计, 使用更简单; 基座可调节, 有效优化蚀刻率和均匀性.

3.       提供聚焦, 发散, 平行的离子束

4.       离子源自动调节技术保障栅极的使用寿命和可重复的工艺运行

5.       栅极材质钼和石墨,坚固耐用

6.       离子源中和器 Neutralizer, 测量和控制电子发射,确保电荷中性

KRI 射频离子源 RFICP 40 技术参数:

KRI 射频离子源 RFICP 40 应用领域：

预清洗

表面改性

辅助镀膜 (光学镀膜 ) IBAD,

溅镀和蒸发镀膜 PC

离子溅射沉积和多层结构 IBSD

离子蚀刻 IBE

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项专利. KRi 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.

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